三星、SK 海力士研究使用韩国产半导体制造设备、材料以...

童话的味道

三星电子正在测试一家韩国厂商的 EUV 光刻胶样品，有消息称三星将在今年下半年开始使用这种光刻胶，用于其 14nm 工艺 DRAM 生产。EUV 光刻胶是半导体芯片生产的核心材料，用于曝光工艺。目前在此类产品全球市场中，日本产品市场份额达到 90% 以上，构成垄断地位。由于日本已经限制向韩国出口 EUV 光刻胶 2 年多，因此三星电子正努力寻找更可靠的本土光刻胶供应商。

三星、SK 海力士正在研究使用韩国产半导体制造设备、材料以取代进口


SK 海力士方面，目前正在与韩国氢氟酸制造商 RAM Technology 进行合作，以减少对进口产品的依赖。目前，SK 海力士已经在韩国和中国的芯片工厂使用韩国产 HF 氢氟酸。