什么是光刻胶，国产光刻胶厂商大盘点

童话的味道

2020 年下半年以来，全球半导体行业景气度持续高涨，上游光刻胶市场也不例外，日本信越化学等厂商受多种因素影响，不仅趁此机会抬高光刻胶价格，而且还减少部分中国客户的供给量，中小型客户甚至出现断供的情况。

不过，“断供危机”也倒逼国内晶圆厂商开始尝试国产光刻胶，这在一定程度上加快了国产光刻胶的发展速度。目前彤程新材、晶瑞电材已经供货多家下游厂商，而南大光电、上海新阳、广信材料、飞凯材料等厂商的光刻胶产品进度也明显加快。


什么是光刻胶？
光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。


在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。